NEE-4000(M)电子束蒸发系统概述:NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置,其中样品台位于主腔体内,二级腔体则用于安置电子束源。这种在两个腔体之间带有门阀的配置可以作为预真空锁,使得电子束源腔体保持真空的......
NPC-3000等离子去胶机(刻蚀机)概述:NANO-MASTER 等离子去胶和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离子源,......
NIE-3500(A)全自动IBE离子束刻蚀产品概述:该系统为全自动上下载片,并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有......
NIE-3000离子束清洗系统产品概述:该系统为手动放片取片,但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统,系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。NIE-3000离子束清洗系统产品特点:·&nbs......