NIE-3000离子束清洗系统产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。

NIE-3000离子束清洗系统产品特点：

·         低成本

·         离子束：高达2KV/10mA

·         离子电流密度100-360uA/cm2

·         离子束直径：4",5",6"

·         兼容反应及非反应气体(Ar, O2, CF4,Cl2)

·         极限真空5x10^-7Torr

·         260l/s涡轮分子泵，串接500 l/min干泵

·         14"不锈钢或铝质腔体

·         水冷旋转/倾斜样品台(NIE-3500)

·         自动上下载片（NIE-3500）

·         基于LabView软件的PC计算机全自动控制

·         占地面积30"x30"

产品应用：

·         表面处理

·         离子铣

·         表面清洗

·         带活性气体的离子束刻蚀：  光栅刻蚀，以及SiO2，Si和金属的深槽刻蚀