PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极,能够在很宽的温度范围内进行工艺,具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力,该工艺模块可提供具有高度均匀,高产量和高精度的工艺。我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90......
我们的设备和工艺已通过充分验证,正常运转时间可达90%以上,一旦设备安装完毕,可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广,包括但不限于: MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性,可用于研究和开发,通......
产品概述气体泄漏检测的延迟会对工厂财产、环境和人员生命构成巨大威胁。谱育科技研发制造的特气检测仪采用先进的智能传感器技术能侦测到40多种气体,包括硅烷、磷烷、氨气、三氟化氮和其他半导体特气。 使用谱育科技高可靠性的特气检测仪监控系统,提高工......
Ionfab 300 IBD客户选择我们的离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量,致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供了一种多样的刻蚀和沉积的方法,并可在同一设备上实现, 因而提高系统的利用率。我们的设备具有灵活的硬件选项,......
PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻(DSiE)领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统(MEMS)、 先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展,PlasmaPro 100 E......
化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀InSb—刻蚀锑化铟刻蚀InP/InGaAs......
NEE-4000(M)电子束蒸发系统概述:NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置,其中样品台位于主腔体内,二级腔体则用于安置电子束源。这种在两个腔体之间带有门阀的配置可以作为预真空锁,使得电子束源腔体保持真空的......
NPC-3000等离子去胶机(刻蚀机)概述:NANO-MASTER 等离子去胶和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离子源,......
D9650和上一代产品一样提供了良好的精度和稳健性,增加了一个合并了PolyGate技术和Sonolytics的改进型的电子与软件平台。D9650是理想的用于失效分析、工艺开发、材料特性和小批量生产的工具。产品原理 :利用不同材料对超声波声......
瞬态光电压(TPV)、瞬态光电流(TPC)测试是揭示光伏、光催化等光电器件微观工作机理的关键手段。利用TPV 和TPC 检测的数据进行分析,可以得到器件内部载流子的传输、积累、复合等动力学过程的相关信息。TPV 和TPC 的测试是直接基于*......