扩散炉、低压化学气相沉积设备(LPCVD)产地:韩国;有单管和双管两个不同的型号,用于科研或者小规模生产。 性能和特点: - 温度范围:500 ~ 1000摄氏度;- 气体混合能力(带有质量流量计);- 真空范围:~ 10-6 T......
快速热化学气相沉积系统 (RTCVD)生产商:韩国Ecopia RTCVD快速热化学气相沉积设备广泛用于多晶硅、氧化硅、氮化硅等常见半导体薄膜的沉积和制备。 性能和特点:- 温度范围:室温 ~ 1500°C;- 升温速度......
快速热化学气相沉积系统 (RTCVD)生产商:韩国Ecopia RTCVD快速热化学气相沉积设备广泛用于多晶硅、氧化硅、氮化硅等常见半导体薄膜的沉积和制备。 性能和特点:- 温度范围:室温 ~ 1500°C;- 升温速度......
光刻机又名:掩模对准曝光机,曝光系统,光刻系统,光刻机,紫外曝光机等;ECOPIA为全球领先的半导体设备供应商,多年来致力于掩模对准光刻机和匀胶机研发与生产,并且广泛应用于半导体、微电子、生物器件和纳米科技领域;该公司是目前世界上最早将光刻......