连续退火实验与模拟系统 &......
Mila-5050适用于对直径50mm以内的样品进行热处理。之前推出的Mila-5000series,可处理的样品的最大尺寸为直径20mm,已不能满足部分用户的需求。新型号Mila-5050在继承了Mila-5000series的集成化桌面......
RTP-6快速退火炉配备了抛物面反射器和红外灯加热系统,可以均匀加热尺寸达6英寸的晶圆。其具备高速热处理的能力,可用于热处理工艺的研究和开发。 在个别半导体工艺和化合物半导体的过程退火中可以形成硅化物。应用:用于半导体的各种晶片的......
红外金面反射炉应用于科研和生产当中,RHL-P系列红外金面反射炉具备加热速度快,温度范围宽等特点。 应用:硅、半导体复合材料的快速退火;可用作玻璃和陶瓷材料的退火炉;可用作金属退火炉;复合材料的耐热性评价炉;高温膨胀/收缩测试炉;......
快速热处理(RTP)已经成为半导体、铁电体以及镀膜行业的重要退火技术。但是目前,只有大型的、昂贵的生产设备才能完成快速热处理,这大大降低了研发工作的效率(尤其是小的样品)。为了满足市场的需求,ADVANCE RIKO研发出MIL......