NLD-3500(A)全自动原子层沉积设备概述:原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响......
原子层沉积系统Atomic Layer Deposition System 产地:美国Angstrom;型号:Angstrom Dep II, Angstrom Dep III; 原子层沉积技术(Atomic Layer......
NLD-4000(ICPM)PEALD系统概述:原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足准确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响......
LB-CP-VOC是一款多功能智能化手持式VOC气体检测仪,采用美国进口的PID光离子化传感器,确保了测量数据的准确性和精度,最小检测可达1ppb。 LB-CP-VOC气体检测仪凭......
设备规格衬底尺寸:标准尺寸:100mm Dia (4 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~400°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~15......
设备规格衬底尺寸:标准尺寸:300mm Dia (12 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~500°C 精度:土1°C(可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~1......
设备规格可处理样品量:克级工艺温度:温度范围:RT~450°C前驱体路数:最大支持4路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)载气:标准:N2, MFC 流......
设备规格衬底尺寸:标准尺寸:200mm Dia (8 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数......
设备规格衬底尺寸:标准尺寸:200mm Dia (8 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数......
设备规格衬底尺寸:标准尺寸:200mm Dia (8 inch)(可定制)工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:最大支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数......