PROMETHEUS 流化床原子层沉积系统粉末包覆可有效提升材料性能与使用寿命,如锂电正极或负极材料,经过表面包覆处理后在放电性能及循环使用寿命方面都有明显提升,但目前工业的包覆手段以机械混合的干法为主,该方法包覆均匀性较差,性能提升有限。......
THEIA 超快平面原子层沉积系统THEIA 是一款高性能,稳定,灵活,可靠且安全的研发型原子层沉积系统,兼具工业生产解决方案的优势。THEIA 可进行升级改造,从而满足科学研究的各种需求,并实现从“研发”到“......
PICOSUN®R-200高级ALD镀膜设备 Picosun简介Picosun是一家全球公司,Picosun的总部位于芬兰的Espoo,其生产设施位于芬兰的Masala(Kirkkonummi)。PICOSUN®ALD......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200基础版(PICOSUN™ ALD R-200 Standard) 名称:原子层沉积系统 产地:芬兰 Picosun简介Picosun是一家全球公司,Picosun......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200 Pro(PICOSUN™ ALD R-200 S Pro)原子层沉积系统( ALD P-200) 名称:原子层沉积系统 产地:芬兰&nbs......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版(PICOSUN™ ALD R-200 Advanced) 名称:原子层沉积系统 产地:芬兰 Picosun简介Picosun是yi家全球公司,......
SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子层沉积系统,具有良好的均匀性及优越的阶梯覆盖性能,使用户能够精确控制每个原子层的沉积。通过手套箱,可在惰性气体环境下进行操作,并且可以防止吸入纳米级颗粒。该设备是小型且经济实惠的型号,与主机......
PICOSUN™ R系列设备提供高质量ALD薄膜的沉积技术,并在各种各样的衬底上都表现ji佳的均匀性,包括zui具挑战性的通孔的、超高深宽比和颗粒等样品。我们为液体、气体和固体化学物提供的更高级的,易更换的前驱源系统,能够在晶圆......
PICOSUN原子层沉积系统ALD R-200高级版(PICOSUN™ ALD R-200 Advanced) PICOSUN®R-200 Advanced ALD系统适用于数十种应用的研发,例如IC组件,MEMS器件,显示器,L......
敏捷的设计实现了zui高质量的ALD薄膜沉积以及zui终的系统灵活性,可以满足未来的需求和应用。专利的热壁设计具有完全du立的入口和仪器,可实现无颗粒工艺,适用于晶圆,3D对象和所有纳米级特征上的多种材料。得益于我们专有的Picoflow™......