设备规格工艺温度:温度范围:RT~500°C (可定制)前驱体路数:支持6路前驱体气路(可定制),包含固、液态前驱体源瓶加热系统:可加热温度范围:RT~150℃反应物路数:支持2路反应物气路(可定制)载气:标准:N2, MFC 流量控制(可......
Exploiter原子层沉积系统(HV集成传送反应腔)是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD生产系统,适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池等领域的工业批量化生产。 1、产品特色(1)传输管路的优化设计,有效......
Exploiter原子层沉积系统是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD研发系统,适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池等领域的工业批量化生产。 1、产品特色(1)传输管路的优化设计,有效地避免管路堵塞及交叉污......
Exploiter原子层沉积系统是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD生产系统,适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池等领域的工业批量化生产。 1、产品特色(1)传输管路的优化设计,有效地避免管路堵塞及交叉污......
Exploiter原子层沉积系统-HV集成传送反应腔是一款具有自主知识产权的新一代自动化高速ALD生产系统,适用于半导体、柔性显示、光学薄膜、太阳能电池及锂电池等领域的工业批量化生产。1、产品特色(1)传输管路的优化设计,有效地避免管路堵塞......
Exploiter E200P原子层沉积系统(粉末颗粒包裹反应腔)是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统,可在平面衬底、粉末颗粒表面、高深宽比结构及其他复杂三维结构上沉积薄膜。原子层沉积系统 E200P广泛适用......
Exploiter原子层沉积系统是原速科技自主开发的新一代智能化ALD研发系统,广泛适用于纳米材料、微机电系统、催化剂、生物膜材料及光电材料等领域。系统优势 1.传输管路的优化设计,有效地避免......