Hiden PSM是一台结合质量和能量分析的仪器,用于分析等离子体过程中正、负离子、中性粒子以及自由基的种类和能量分布。PSM是一台差式泵质谱仪(In-Line Plasma Analysers for Neutrals, Radicals......
描述:Hiden SIMS二次离子质谱工作站提供高性能静态和动态 SIMS 分析,用于的表面成份分析和深度剖析。SIMS 工作站(SIMS Workstation-a complete SIMS Analysis Facility) ,综合......
Hiden SIMS二次离子质谱工作站提供高性能静态和动态 SIMS 分析,用于的表面成份分析和深度剖析。SIMS 工作站(SIMS Workstation-a complete SIMS Analysis Facility)&n......
描述:IG5C 具有低功耗、高亮度的表面电离源,与紧凑型离子柱耦合,在小型封装中提供高性能。Hiden IG5C 铯离子枪(Ion Gun),先进的离子枪,配合SIMS进行材料表面和深度的分析。 具备低功耗、高亮度表面电离离子源,......
Hiden TOF-qSIMS 飞行时间二次离子质谱工作站设计用于多种材料的表面分析和深度剖析应用,包括聚合物,药物,超导体,半导体,合金,光学和功能涂层以及电介质,检测限低于1ppm。TOF-qSIMS Workstation 包含了四极......
描述:EQS 是差式泵式二次离子质谱(SIMS-Secondary Ion Mass Spectrometer ‘Bolt-On’ probe),可分析来自固体样品的二次阴、阳离子和中性粒子。采用最新技术的SIMS 探针,便于连结到现有的U......
MAXIM 二次离子溅射中性粒子质谱仪可分析二次阴、阳离子动态和中性粒子,所具备的的30°接受角可形成样品粒子平面,应用于SIMS和SNMS的光学采样。特点·光栅控制,增强深度分析能力·所有能量范围内,离子行程的最小扰动,及恒定离......
IMP-EPD是一款差泵、加固型二次离子质谱仪,用于分析离子束蚀刻过程中的二次离子和中性离子。仪器简介:IMP离子蚀刻探针(Ion Milling Probe),自带差式泵,坚固的二次离子质谱仪,适于分析离子蚀刻过程中的......
描述:IG20 具有高亮度电子冲击气体离子源,专为氧气能力而设计,但也适用于惰性气体和其他气体。Hiden IG20 Ar/O2离子枪(Ion Gun),先进的离子枪,配合SIMS进行材料表面和深度的分析。特点·静态、动态SIMS·俄歇电子......