JBX-3050MV 电子束光刻系统JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV......
JBX-6300FS 电子束光刻系统JBX-6300FS的电子光学系统在100kV的加速电压下能自动调整直径为(计算值)2.1nm的电子束,简便地描画出线宽在8nm以下(实际可达5nm)的图形。 此外,该光刻系统还实现了9nm以下的场拼接精......
BS/JEBG/EBG 系列电子枪用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。产品特点:用于光学薄膜及电极膜等各种薄膜形成的电子束蒸镀用电子枪/电源。电子束蒸镀法的特征用电子束直接照射镀膜材料进行加热,因此热效率高,能蒸发......
BS/JST系列电子枪/电源和偏转型电子枪结合使用,用作电子束蒸镀的高压电源。产品特点:和偏转型电子枪结合使用,用作电子束蒸镀的高压电源。BS-720xxICE系列电源多功能、高性能、采用按钮操作。产品规格:型号zei大输出功率加速电压发射......
JEBG系列大功率电子枪/电源JEBG系列大功率电子枪是在真空中蒸发或熔解金属及氧化物的大功率电子束发生源,能在不断输送中的宽幅塑料和大面积玻璃基板上高速率地连续镀膜,此外在电子束熔炼时,可用于高熔点金属锭的生产及提纯。产品特点:JEBG系......
BS-80011BPG产生高密度等离子体的内置型等离子体枪安装在真空室内产生高密度等离子体的等离子体源。利用和真空蒸镀结合的等离子体辅助沉积技术(离子镀),能提高光学薄膜、保护膜、功能膜等的薄膜特性。另外,还可以用作等离子处理如对清洗基板和......
BS-80020CPPS等离子体源BS-80020CPPS是用于辅助低温(100℃以下等)下塑料基板和胶片成膜的等离子体源。The plasma source in this product series is specialized fo......
RF-120系列高频电源是溅射、刻蚀、CVD、离子镀等薄膜制备/加工使用的、用于生成等离子体的13.56MHz高频电源(RF电源)。特性:A high-frequency power supply (RF power supply) cre......
RF-340 系列匹配网络自动整合装置和产生等离子体的13.56MHz高频电源组合,与负载进行匹配的自动调整装置 (匹配箱 + 控制器) 。Features特点RF-340 series Matching NetworkAn automat......
BS-04 系列 旋转式传感器晶振膜厚控制仪的传感器,可装载6个或12个晶振片 。The BS-04 series rotary sensor is used for crystal oscillation type film thickn......