仪器简介TXRF(全反射X荧光)分析原理是基于X荧光能谱法,但与X射线能谱形成对比的是,传统能谱采用原级X光束以45°角轰击样品,而TXRF采用毫弧度的临界角(接近于零度角)入射。由于采用此种近于切线方向的入射角,原级X光束几乎可以全部被反......
仪器简介TXRF(全反射X荧光)分析原理是基于X荧光能谱法,但与X射线能谱形成对比的是,传统能谱采用原级X光束以45°角轰击样品,而TXRF采用毫弧度的临界角(接近于零度角)入射。由于采用此种近于切线方向的入射角,原级X光束几乎可以全部被反......
HORIZON 全反射X荧光光谱仪 应用于半导体材料领域(XRF)仪器由激发源(X射线管)和探测系统构成。X射线管产生入射X 射线(一次射线),激励被测样品。样品中的每一种元素会放射出的二次X射线,并且不同的元素所放出的二次射线具有特定的能......
HORIZON 全反射X荧光光谱仪 应用于油品分析领域全反射X-光荧光分析仪(Total-reflection X-ray Fluorescence Spectrometer, TXRF&......
HORIZON 全反射X荧光光谱仪 应用于染料分析领域能量发散X光荧光分析仪(简称EDXRF:Energy-Dispersive X-Ray Fluorescence Spectrometry),EDXRF的仪器构造,如同WDXRF,也是由......
HORIZON 全反射X荧光光谱仪 应用于法医学领域样品中的每一种元素会放射出的二次X射线,并且不同的元素所放出的二次射线具有特定的能量特性。探测系统测量这些放射出来的二次射线的能量及数量。然后,仪器软件将控测系统所收集的信息转换成样品中的......
TX 2000 全反射X荧光光谱仪 应用于环境分析领域X射线荧光(XRF)是当原级X射线照射样品时,受激原子内层电子产生能级跃迁所发射的特征二次X射线。该二次X射线的能量及强度可被探测,与样品内待测元素的含量相关,此为XRF光谱仪的理论依据......
TX 2000 全反射X荧光光谱仪 应用于制药分析领域EDXRF中X射线的出入射角度通常约为40度,分析深度通常发生在近表层100μm左右,有较强的背景及基体影响;TXRF为EDXRF的变种,其入射角度<0.1度,分析深度通常<......
TX 2000 全反射X荧光光谱仪 应用于化学纯度分析领域通常,仅需将样品溶液或悬浊液置于支撑的光学平面上(如石英玻璃),蒸干后,残留物上机检测。因平面的高反射率,载体的光谱背景几乎被消除;少量的残留物所形成的薄层样品基体效应很小,具有以下......
TX 2000 全反射X荧光光谱仪 应用于核材料工业领域仪器简介TXRF(全反射X荧光)分析原理是基于X荧光能谱法,但与X射线能谱形成对比的是,传统能谱采用原级X光束以45°角轰击样品,而TXRF采用毫弧度的临界角(接近于零度角)入射。由于......