OpAL系统是一种带有等离子体选项的直开式热原子层沉积(ALD)设备。 它可通过清晰而易行的途径升级为等离子体 ALD,这样便可在一个结构紧凑的设备上实现等离子体和热ALD。紧凑型直开式热原子层沉积(ALD)设备,带有等离子选项适用于小尺寸......
AgilentE4406A频谱分析仪二手 罗S15994802706深圳佳捷伦电子仪器有限公司罗S:15994802706/13510500080 V同电话:0755-89518111Agilent E4406A VSA矢量信号......
N1913A EPM 系列单通道功率计=======================================深圳佳捷伦电子仪器有限公司联系人:罗S/欧阳手机:15994802706/13510500080/13530634716电话......
E5061B ENA 矢量网络分析仪=======================================深圳佳捷伦电子仪器有限公司联系人:罗S/欧阳手机:15994802706/13510500080/13530634716电话:......
NPE-3000 PECVD等离子体化学气相沉积系统概述:NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到至大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具......
NPE-3500 PECVD等离子体化学气相沉积系统概述:NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜z大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子,具有......
NPE-4000(A)全自动PECVD等离子体化学气相沉积系统概述:NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到z大可达6” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等......
NLD-3500(M)原子层沉积系统概述:原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响,所以......
NLD-4000(A)全自动原子层沉积系统概述:原子层沉积是一项沉积薄膜的重要技术,具有广泛的应用。ALD原子层沉积可以满足精确膜厚控制以及高深宽比结构的保形沉积,这方面ALD原子层沉积远超过其它沉积技术。由于前驱体流量的随意性不会带来影响......
NPE-4000(M)PECVD等离子体化学气相沉积系统概述:NANO-MASTER PECVD系统能够沉积高质量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到z大可达12” 直径的基片上.该系统采用淋浴头电极或中空阴极射频等离子源来产生等离子......