GD-Profiler 2是一款可进行超快镀层分析的理想工具,非常适合于导体(和/或)非导体复合镀层的分析。可分析70多种元素,其中包括C、H、O、N和Cl。一次测试可轻松获取镀层元素深度分布、镀层厚度、镀层均一性及表面/界面等信息。GD-......
GD-Profiler HR拥有独一无二的超高光谱分辨率,为解决复杂基体中的疑难问题提供了适宜、便利的方法。技术参数:1、射频发生器-标准配置、复合D级标准、稳定性高、溅射束斑极为平坦、等离子体稳定时间极短、表面信息无任何失真。2、脉冲工作......
辉光放电光谱检测方法利用低压,通过氩离子束对样品表面均匀溅射物质的非热能处理技术。溅射出的物质离开样品表面随后被原子化并在低压等离子放电区域被激发。GDS850A就是针对提高实验室进行过程控制和研究,以及研发的技术设计的。 这个型......
配备CCD检测器的GDS500A辉光放电原子发射光谱仪提供了最先进的技术,专门设计用于在大多数导电固体材料的常规元素的测定。 通过使用辉光放电的方法,样品材料均匀地从表面溅射。非热激发的采样过程,为一些检测困难的样品提供的技术上的支撑。 它......
4-inch Desktop 8-inch Desktop Robot I System Robot II System1、外延尺寸(最大12” ):&nbs......
解密镀层工艺、解析镀层结构——Profiler 2辉光放电光谱仪是解密镀层工艺、解析镀层结构的强有力手段,可以通过元素变化获得镀层结构、层间扩散、元素富集、表面处理、镀层均一性等信息,从而改善工艺条件等。主要应用行业有金属冶金、半导体器件、......
虽然其它的方法可以对样品表面轰击也可以做得很好,但永远做不到对分析的试样每次都能提供这样的典型烧斑。由于采用辉光放电,从表面溅射出来的样品物质非常均匀。样品分析过程的非热能特征对于复杂的应用来说是一种极好的方法。 Mo......
辉光放电光谱法采用低压,冷激发光源,材料被氩离子流均匀地从样品表面剥离溅射。 被溅射出的材料原子在远离样品表面低氩的等离子体内被激发。 GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力,它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分......
GDS850A就是针对提高实验室进行过程控制和研究,以及研发的技术设计的。 这个型号的仪器可提供非常高的准确的元素总量分析以及对于涂层和表面处理的断面深度定量分析。其提供的光谱分析范围可从120nm 到800nm,元素分析通道可设置到5......
GDS850的配备提高了实验室的质量控制和研发能力,它提供了非常准确的基体分析以及成分深度剖析涂层分析和表面处理的结果。 仪器检测光谱范围从120到800纳米,最多配置58个通道,其他方法可能只是激发样品表面,所采集的数据并不一定具有代表性......