上海伯东 离子蚀刻机 20-M / NS-12适合大规模量产使用的离子刻蚀机基片尺寸直径 4英寸 X 12片 直径 18英寸 X 3片样品台直接冷却离子源20cm 考夫曼离子源电源可更换为国内电源伯东离子蚀刻机主要优点:1. 干式制......
Lumina-200独立式高分辨率光刻/对准器。 Lumina系列为电子,光电,MEMS和许多其他应用中的高分辨率,精确对准,接触和接近光刻提供了高质量,可靠且经济高效的解决方案。 它具有易于使用的界面,高精度的载物台,高性能的光学元件和较......
TERA Fab E系列是首台商业化光束笔光刻(BPL)纳米加工系统, 仪器使用多达两万支可独立编程笔阵列, 每支笔尖都有相同尺寸小孔光阑来进行无掩膜光刻; 自定义软件允许研究人员在0.5x0.4平方厘米区域内......
TERA Fab M系列是全球首台商业化的PPL工具, 此技术也叫DPN(Dip Pen Nanolithography), 是基于无悬臂扫描探针打印光刻, 无需掩膜板即可在超过平方厘米的区域内, 使用多种材料......