JULABO T-G 超低温液氮制冷及恒温系统温度范围:-180℃ ~ 0℃型号T-G 50-1T-G 50-2T-G 50-3T-G 50-4T-G 50-5液氮汽化器功率500W液氮消耗量1.1-11L/h低温氮气管路V2A,1.8米,......
JULABO TG-LKF 高精度加热制冷气体恒温系统温度范围:-180℃ ~ +100℃型号TG-LKF-A 63/50-1TG-LKF-A 63/50-2TG-LKF-A 63/50-3TG-LKF-A 63/50-4TG-LKF-A ......
JULABO TG-LKF-H 加热制冷气体恒温系统温度范围:-180℃ ~ +100℃型号TG-LKF-H 63/50-1TG-LKF-H 63/50-2TG-LKF-H 63/50-3TG-LKF-H 63/50-4TG-LKF-H 6......
Chemspeed ISYNTH AI自动化活性组分库合成工作站针对活性组分,Chemspeed ISYNTH AI 全自动库合成工作站提供无可比拟的高通量平行合成,能为液体和固体试剂反应做好准备,并多步合成、后处理、纯化、分析和把产物转移......
品牌介绍:型号PPS-5511试验管数1~ 5个合成量0.5~60mL(可变)搅拌方式高强磁力搅拌温度调节范围-23~160℃ (独立控温)(50~60mL:~130℃)温度调节精度±0.5℃回转速度100~ 2000r......
品牌介绍:试验管数1~8个、1~32个(使用转接口时可变)合成量0.5~60mL搅拌方式强磁力搅拌温度调节范围室温+10~280℃回转速度约100~1200rpm(水)温度设定・显示按键输入设定・数字显示搅拌设定旋钮式设定回流无/冷却水分流......
多功能薄膜制备系统-Nano PVD基于多年大型薄膜制备系统的设计与研发所积累的丰富经验,Moorfield Nanotechnology深入了解了剑桥大学、诺森比亚大学、帝国理工学院、巴斯大学、埃克塞特大学、伦敦玛丽女王大学等多所著名大学......
多功能薄膜制备系统-nanoETCH石墨烯等二维材料的微纳加工与刻蚀需要很高的精度,而目前成熟的传统半导体刻蚀系统在面对单层材料的高精度刻蚀需求时显得力不从心。为了解决目前微纳加工中常用的等离子刻蚀系统功率较大、难以精细控制的问题,Moor......
台式高精度薄膜制备与加工系统Moorfield Nanotechnology是英国材料科学领域高性能仪器研发公司,成立25年来专注于高质量的薄膜生长与加工技术,拥有雄厚的技术实力,推出的多种高性能设备受到科研与工业领域的广泛好评。Moorf......
台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL台式气氛\压力控制高温退火系统—ANNEAL可用于二维材料以及衬底、样品在特定氛围中的高精度热处理,也可用于其他有高精度热处理要求的方向。Moorfield Nanotechnology将样品、衬......