PHI简介ULVAC-PHI为全球超高真空表面分析仪器供应商的ling导者,ULVAC-PHI创新的X射线光电子能谱技术(xps)、俄歇电子能谱技术(AES)、二次离子质谱技术等为客户在材料分析方面提供全面且du一无二的解决方案。所提供的仪......
俄歇电子能谱仪(Auger Electron Spectrometer, AES)为微电子业常见的表面分析技术之一。原理是利用一电子束为激发源,使表面原子之内层能阶的电子游离出,原电子位置则会产生电洞,导致能量不稳定,此时外层电子会填补产生......
X 射线光电子能谱(XPS)是材料科学和发展的领域中最广泛使用的表面分析技术。其原理是利用X射线束(一般会使铝阳极或镁阳极)作为入射源,照射在样品表面导致让光电子从原子的核心层被激发出。根据测得的光电子所发出的电子动能,再依照能量守恒定律就......
PHI Quantera II 扫描X射线光电子能谱仪(XPS)是Ulvac-Phi公司以在业界获得非常卓越成绩的Quantum 2000和Quantera SXM之上延申后所zui新研发的XPS分析仪器,其超卓技术包括有:一个独创微集中扫......
岛津/Kratos X射线光电子能谱仪AXIS Supra——最新超高空间分辨成像和超高灵敏度智能科研型,业界领先 位于英国曼切斯特的Kratos公司是世界上最早生产商品化X射线光电子能谱仪的厂家之一,现在是世界上最大的分析仪器制......
全自动化的XPS系统采用一束扫描、聚焦、单色化的Al X射线源以及一束扫描、聚焦、单色化Cr X射线源用于高空间分辨率的化学态分析和HAXPES* ( 硬X射线光电子能谱分析)。Al单色化X射线能量是1486.7 eV,Cr单色化X射线能量......
PHI5000 VersaProbeIII是PHI扫描XPS微探针设备最新产品,应用了PHI业界领先的专利扫描X-射线技术和专利双束中和技术,成为更高水平的多功能分析仪器。最新技术:l 新的分析器输入透镜,将灵敏度提高......
PHI Quantera II扫描XPS微探针是建基于业界荣获最多殊荣的Quantum 2000和Quantera SXM之上最新研发的XPS分析仪器,其革命性的技术包括:独创微聚焦X-ray源,可以得到世界最小至7.5μm的聚焦X-ray......
PHI X-tool是一款操作简单,同时具备高效高能的XPS。其秉承PHI-XPS独有的扫描聚焦X-ray系统,可通过单色化石英晶体叫X-ray直接聚焦至20μm。和传统的XPS相比,不采用光阑进行选区,极大的提高了XPS在200μm以下空......
岛津/Kratos X射线光电子能谱仪AXIS Supra——最新超高空间分辨成像和超高灵敏度智能科研型,业界领先 位于英国曼切斯特的Kratos公司是世界上最早生产商品化X射线光电子能谱仪的厂家之一,现在是世界上最大的分析仪器制......