因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准电子束蒸镀设备 E-beam Evaporation System电子束蒸发与热蒸发对比, 能够在非常高的温度下熔化材料, 如钨, 石墨 ... 等等. ......
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因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准剥离成形电子束蒸镀设备 Lift-Off E-beam Evaporation System对于有些金属, 我们很难使用蚀刻 Etching ......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准磁控共溅镀设备 Co-Sputter磁控共溅镀是指同时有两个或多个磁控溅镀枪, 溅镀于被镀物上. 磁控共溅镀主要用于复合金属......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准超高真空磁控溅镀设备 UHV Sputter超高真空环境的特征为其真空压力低于 10-8 至 10-12托, 超高真空环境对于科学研究非常重要, 因实验通......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准多层膜磁控溅镀设备 Multilayer sputter多层膜的结构广泛用于各个领域. 在单一材料薄膜无法满足所需规格的精密系统中, 高质量多层膜的作用至关重要. ......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准连续式多腔磁控溅镀设备 In-Line sputter上海伯东代理的连续式多腔磁控溅镀设备可准确控制其溅镀制程条件, 为客户提供更优质的薄膜, 广泛应用于纳米研究技......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准金属热蒸镀设备 Metal Thermal Evaporation System热蒸发制程是用于沉积材料中最简单的物理气相沉积 PVD . 将材料 (金属或者有机材......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准有机材料热蒸镀设备 OLED, OPV有机金属热沉积系统是一种热蒸发的方式, 用于将有机或金属材料沉积到基板表面上. 该过程需要通过准确控制温度和沉积速率来实现薄膜......
因产品配置不同, 价格货期需要电议, 图片仅供参考, 一切以实际成交合同为准原子层沉积 ALD 是基于顺序使用气相化学过程的重要技术之一, 它可以被视为一种特殊类型的化学气相沉积 CVD . 多数 ALD反应使用两种或更多种化学物质(称为前......