NSC-4000(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8"旋转平台,可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 To......
溅射设备 MVSMVS提供单靶材或多靶溅射设备。可根据用户需求定制。制备透明导电薄膜 (如ITO,AZO)。 MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从......
多功能高级磁控溅射喷金仪—nanoEMnanoEM是Moorfield Nanotechnology推出的一款高精度的磁控溅射喷金仪。该系统可配备SEM样品托、TEM网、普通样品等多种专用样品台,满足各种高精度的喷金或电生长需求。除了溅射金......
LUXOR Au喷金仪是一款触摸屏控制的全自动的磁控离子溅射装置,专用于电镜某些非导电样品的喷金处理,以提高电镜观察的成像效果!主要技术指标和特点如下:------ 三种模式: 金属溅射,样品干燥,真空脱气------......
LUXOR-Pt 喷金仪是一款触摸屏控制的全自动的磁控离子溅射装置,专用于电镜某些非导电样品的喷金处理,以提高电镜观察的成像效果!采用独特的样品倒挂设计,装取样品简易,无高压线缆外置,样品避免碎粒碎屑沉积,镀膜均匀一致,触摸屏控制......
LOAD LOCK Chamber (option)LOAD LOCK预真空进样室(可选)Chamber with front open door前开门蒸发腔体Cryopump and dry pump冷凝泵和干泵Multiple ther......
该设备在非导电和微导电试样表面制造等离子体形成金属薄膜,是电子显微镜(SEM)分析时必须进行的预处理设备。主要特点1.7英寸触摸屏,操作更简单 2.抽真空→ 自动喷......
以下是KAS-2000F的主要技术参数:重量:10 Kg尺寸:420 mm (W)x220 mm (D)x230 mm (H)(长,宽,高)靶材尺寸:50mm样品室内径:100mm靶材类型:Au/Pt(标配Au)操作真空:0.1 Torr(......
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化学需氧量(Chemical Oxygen Demand,即COD)是指在强酸并加热条件下,用重铬酸钾作为氧化剂处理水样时所消耗氧化剂的量,以氧的mg/L 来表示。化学需氧量常作为评价有机物相对含量的综合指标,CODCr是我国实施排放总量控......