NSC-4000(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8"旋转平台,可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 To......
SBC-12小型离子溅射仪产品特点:特殊密封结构,玻璃不易损坏操作方便,无需培训即可使用维护成本低,无需上门安装技术指标:真空系统两级直联旋片真空泵真空检测皮氏计真空保护配有微量充气阀,用于调节离子流的大小工作气体空气或氩气产品尺寸工作腔室......
此款小型离子溅射仪主要用于扫描电子显微镜样品镀覆导电膜(金膜),仪器操作简单方便,是配合SEM 制样的仪器。设备配有微量充气阀调节工作真空,在 20Pa 真空保护。同时,配有专用进气口和微量充气调节装置,以方便......
产品特点全自动控制,无需调整针阀专利结构,靶材更换非常简单特殊密封结构,玻璃不易损伤专利结构,样品台高度调整方便内置操作向导,无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶......
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域放置手套箱内,用于易污染、易氧化需要保护的样品制备技术指标溅射电流:5-45mA工作方式:全自动磁控溅射电压:600V靶......
产品特点液晶显示屏简便操作自动抽真空做样自动放气溅射电流范围大溅射效率高颗粒度小样品表面无温升适用温度敏感性样品应用领域场发射电镜、电极制备、温度敏感样品制备技术指标工作方式:全自动磁控溅射电流:5-45mA靶材:金、铂(标配、二选一)溅射......
VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪,针对于高通量MGI(材料基因组计划)薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料,通过5种元素,按16种不同配比组合。 技术参数概念5个溅射头安装5种不同材料通过不同的溅......
mini型磁控溅射仪KT-Z1650PVD,该设备集磁控溅射与离子镀膜技术为一体,对提高颜色一致性、沉积速率及化合物成份的稳定性提供了解决方案。设备具有外形美观、结构紧凑、占地面积小、自动化程度高、操作简单灵活、性能稳定、易维护等特点。设备......
产品名称:等离子薄膜溅射仪 GSL-1100X-SPC-12产品简介:GSL-1100X-SPC-12型等离子薄膜溅射仪是为扫描电镜和电子探针等进行试样制备的设备,可进行真空蒸碳、真空镀膜和离子溅射,它也可以在高纯氩气的保护之下进......
VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮......