NSC-4000(M)磁控溅射系统概述:带有水冷或者加热(可加热到700度)功能,可达8"旋转平台,可支持4个偏轴平面磁控管。系统配套涡轮分子泵,极限真空可达10-7 Torr,15分钟内可以达到10-6 To......
溅射设备 MVSMVS提供单靶材或多靶溅射设备。可根据用户需求定制。制备透明导电薄膜 (如ITO,AZO)。 MVSystems, Inc. 由曼登博士(Dr. Arun Madan)创建于1989年。曼登博士曾在英国丹迪大学从......
LOAD LOCK Chamber (option)LOAD LOCK预真空进样室(可选)Chamber with front open door前开门蒸发腔体Cryopump and dry pump冷凝泵和干泵Multiple ther......
化学需氧量(Chemical Oxygen Demand,即COD)是指在强酸并加热条件下,用重铬酸钾作为氧化剂处理水样时所消耗氧化剂的量,以氧的mg/L 来表示。化学需氧量常作为评价有机物相对含量的综合指标,CODCr是我国实施排放总量控......
EMS150 T离子溅射镀膜仪的机壳是整体成型的,结构坚固耐用,配有气冷的70L/S的涡轮分子泵,自动进气控制保证了溅射期间最佳的真空水平,真空腔室直径为165mm并带有防爆装置。EMS150T具有“真空闭锁”功能,......
EMS150R 离子溅射镀膜仪 新一代EMS 150R镀膜仪(真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪)采用最新技术研制而成,彩色触摸液......
EMS 150膜厚监控仪(Film Thickness Monitor)EMS 150膜厚监控仪和喷金仪/离子溅射仪/喷碳仪/蒸发镀膜仪配套使用,以便对膜厚进行监控。提供内置模块和外接装置。石英晶体是离子型的晶体,由于结晶点阵的有规则分布,......