ETD-2000MH型磁控等离子溅射仪。 磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar......
ISC150离子溅射仪升级版本,采用无油隔膜泵+分子泵获得高真空环境,保证样品喷金处理过程不会产生二次污染。特别适用于追求高分辨率FE-SEM样品的喷金喷铂,光电薄膜制备,电极材料制备及其他金属镀膜用途。PRO版本离子溅射仪主要的特点就是“......
桌面级SEM扫描电镜用多功能离子溅射仪,特别适用于FE-SEM高分辨扫描电镜样品的喷金以及样品等离子体清洗等多种用途。采用分子泵泵组获得< 9*10-6 Torr本底真空,可以在mTorr气压下实现磁控溅射喷金,获得更为细腻的金膜,以......
EMS150R 离子溅射镀膜仪 新一代EMS 150R镀膜仪(真空镀膜仪/喷碳仪/蒸镀仪)采用最新技术研制而成,彩色触摸液......
分子泵超高分辨非晶层镀膜,电镜放大倍率可到300K也不会看到镀膜颗粒,非常适合于现阶段超高分辨场发射电镜或双束电镜,电子探针等,如 FEI Nova, Megglen, Verios, Helios等, 日立电镜的SU80000, SU82......
? 专利磁控冷态喷镀专利冷态镀膜设计使用真正的“平衡磁控管”没有等离子体电流在样品,在得到高分辨非晶镀膜层同时避免样品受到热损伤,对热损伤或辐照损伤敏感样品尤为适合?广泛的镀层靶材选择特殊双极磁控管头设计和有效的气体离子处理使得2......
? 专利磁控冷态喷镀专利冷态镀膜设计使用真正的“平衡磁控管”没有等离子体电流在样品,在得到高分辨非晶镀膜层同时避免样品受到热损伤,对热损伤或辐照损伤敏感样品尤为适合?广泛的镀层靶材选择特殊双极磁控管头设计和有效的气体离子处理使得2......
ETD-650M型磁控溅射仪是我公司研制开发的一款经济实用的袖珍型高真空磁控溅射设备,更适合各科研及教育机构实验室的中试验需求。系统主要由溅射真空室、永磁磁控溅射靶(强/弱磁靶)、光纤旋转台(定制)、直流电源、工作气路、抽气系统、循环水系统......
ETD-2000MH型磁控等离子溅射仪。 磁控溅射的工作原理是指电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作......
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