产品特点全自动控制,无需调整针阀专利结构,靶材更换非常简单特殊密封结构,玻璃不易损伤专利结构,样品台高度调整方便内置操作向导,无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶......
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GVC-1000小型离子溅射仪离子溅射镀膜法是一种利用离子溅射形成干涉膜,以增进相间衬度显示组织的方法。而离子溅射镀膜仪则是一种用于扫描电镜非导电样品非常理想的镀膜设备。产品特点全自动控制,无需调整针阀专利结构,靶材更换非常简单特殊密封结构......
磁控溅射是物理气相沉积的一种。实现了高速、低温、低损伤。是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。其在扫描电镜中应用十分广泛,通过向样品表......
GVC-1000小型离子溅射仪在光学领域:中频闭场非平衡磁控溅射技术也应用于光学薄膜(如减反射膜)、低辐射玻璃和透明导电玻璃。产品特点全自动控制,无需调整针阀专利结构,靶材更换非常简单特殊密封结构,玻璃不易损伤专利结构,样品台高度调整方便内......
作为一种非热涂层技术,应用于微电子领域。各种功能膜:如具有吸收、透射、反射、折射、偏振等功能的膜。例如,在低温下沉积氮化硅增透膜以提高太阳能电池的光电转换效率。产品特点全自动控制,无需调整针阀专利结构,靶材更换非常简单特殊密封结构,玻璃不易......