产品特点全自动控制,无需调整针阀专利结构,靶材更换非常简单特殊密封结构,玻璃不易损伤专利结构,样品台高度调整方便内置操作向导,无需培训即可熟练操作应用领域本仪器主要适用于扫描电镜镀覆导电膜,仪器操作简单方便,是样品制备所必备的仪器。适用的靶......
VTC-5RF是一款5靶头的等离子射频磁控溅射仪,针对于高通量MGI(材料基因组计划)薄膜的研究。特别适合用于探索固态电解质材料,通过5种元素,按16种不同配比组合。 技术参数概念5个溅射头安装5种不同材料通过不同的溅......
VTC-3RF是一款小型台式3靶等离子溅射仪(射频磁控型),配有三个1英寸的磁控等离子溅射头和射频(RF)等离子电源,此款设备主要用于制作非导电薄膜,特别是一些氧化物薄膜。对于新型非导电薄膜的探索,它是一款廉价并且高效的实验帮......
VTC-600-2HD是一款带有两个靶头的磁控溅射镀膜仪,其中一个靶头采用直流(DC)溅射,可溅射金属靶材制备金属膜,另一个采用射频(RF)溅射,可溅射金属和氧化物靶材,制备金属或氧化物膜.设备上安装有薄膜测厚仪可......
VTC-2RF是一款小型的射频(RF)等离子体磁控溅射镀膜仪系统,系统中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF电源、2"的磁控溅射头、石英真空腔体、真空泵和温度控制器等。对于制作一些金属薄膜及非金属薄膜,它是一款......
进口品牌高性能旋片泵产生一个洁净的<1 Pa的真空压强,通常抽真空时间小于3-5分钟。采用高品质恒功率磁控溅射电源,确保恒定沉积速率。磁控阴极的使用也有效减少等离子体对样品的热影响和离子轰击损伤。特别适用于追求更高分辨率SEM 扫描电......
小型磁控溅射镀膜系统适合于快速溅射镀膜科研、教学与小批量打样,可快速、低成本的制备多种微纳米厚度的膜层。 具有一体化、占用空间小、灵活的特点,无需380V工业电,无需额外冷水机,采用无油干泵分子泵组,无需操心真空系统和操作间环境泵......
SD-800C型热蒸发镀膜仪把待镀膜的基片或工件置于真空室内,通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺过程。通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为热蒸发镀膜,热蒸发镀膜技术是历史最悠久的镀膜技术之一。......
SD-900C 型离子溅射仪外观亮丽做工精致,是针对SEM用户研制生产的一款既能溅射金、银、铜、铂又能蒸发碳膜的一机多用设备。此款机器具有小巧方便操作简单成膜效果好之优点,可以满足广大SEM用户随时样品制备的需要。......
SD-900M 型离子溅射仪外观亮丽做工精致。一般针对不耐高温的样品(如:薄膜类样品,树脂类等等) 磁控溅射是物理气相沉积的一种。 一般......