省时高效UV800,采用高效的清洗升温系统,高达9 千瓦的加热功率,保证了快速的升温速度。专业的热声材料,使得热量流失更少,节约了清洗成本。UV800 提供了211 升超大的清洗空间,高达200 多位的清洗篮架,可以一次性清洗大量的玻璃器皿......
超洁净、无残留60-90min 酸蒸汽可以确保微波消解罐内残留降至PPT 级别以下或ICP-MS 未检出,让无机分析工作者实现对微波消解罐的超洁净清洗。极限清洗高效的硝酸亚沸气体生成器,持续逆流采用防腐蚀隔离测温计术,更准确。通过微电脑控制......
NPC-3500(M)等离子去胶机(刻蚀机)概述:NANO-MASTER 等离子去胶和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同的等离......
NIE-3500(M)离子束清洗系统产品概述:该系统为计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统,具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。NIE-3500(M)离子束清洗系统产品特点:·&nb......
NPC-4000(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机)概述:NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同......
SWC-3000兆声辅助光刻胶剥离系统概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模板清洗(SWC)系统,用于的......
SWC-4000兆声晶圆(掩模版)清洗机概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于先进......
NPC-3500(A)全自动等离子去胶机(刻蚀机)概述:NANO-MASTER 等离子刻蚀和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用,从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制,可以配套不同......
SWC-3000 (W) 兆声晶圆清洗机概述:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得z干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于的......
SWC-5000全自动兆声晶圆清洗机:兆声和清洗技术的发展,对MEMS和半导体等领域的晶圆和掩模版清洗提供了的水平,可以帮助用户获得干净的晶圆片和掩模版。NANO-MASTER提供兆声单晶圆&掩模清洗(SWC)系统,用于先进的无损兆......