IB-19530CP 截面样品制备装置为了满足市场多样化的需求,IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台,通过交换各种功能性样品座实现了功能的多样化。产品特点:为了满足市场多样化的需求,IB-19530CP截面抛光仪采用多用途样品台,......
EM-09100IS 离子切片仪用于TEM 、STEM 、 SEM 、 EPMA 和 AUGER样品制备的创新方法 离子切片仪制备薄膜样品比传统制备工具快速、简单。低能量、低角度(0°到6°)的氩离子束通过遮光带照射样品,大大降低了离子束对......
IB-19520CCP 截面样品制备装置IB-19520CCP在加工过程中利用液氮冷却,能减轻离子束对样品造成的热损伤。冷却持续时间长、液氮消耗少的构造设计。在装有液氮的情况下,也能将样品快速冷却、恢复到室温,并且可以拆卸。配有传送机构,在......
IB-09060CIS™ 低温冷冻离子切片仪易受热损伤的样品,也能方便地制作出薄膜样品和截面样品。冷却保持时间长,有效地抑制了热损伤产品特点:带有样品冷却系统,对容易受热损伤的样品也可以进行截面制备的离子切片仪。①通过液氮制冷,减轻了离子照......
日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器! 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling ......
日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量,并制备广域横截面样品。 离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和先进材料等各个领域的研发和质量控制等。......
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sput......
IM4000PLUS是支持断面研磨和平面研磨(Flat Milling®*1)的混合式离子研磨仪器。借此,可以用于适用于各种诸如对样品内部结构观察和各类分析等,为评价目的样品的制作。*1平面研磨(Flat Milling®)是位于日本国内的......
一、VC-100型喷碳仪性能概述VC-100 喷碳仪主要是为钨灯丝扫描电子显微镜的样品制备而设计的专业喷碳仪.其主要部件包括:样品室真空系统喷碳及控制系统二、VC-100型喷碳仪性能介绍真空泵连接真空室,控制单元提供电压,机械泵抽气速率50......
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器(Hitachi Io......