电镜制样抛光器是电镜机械制样所需的微纳机械制样抛光仪和微纳机械制样研磨仪,设计用于平面机械研磨磨削,dimpling,机械减薄和机械抛光功能, 帮助用户获得高品质机械制样结果。电镜制样抛光器是一种紧凑,通用,电控,精确的机械制样研磨机和机械......
日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling System IM4000 )具有断面加工和平面研磨功能的混合仪器! 日立高新离子研磨装置IM4000(HITACHI Ion Milling ......
日立ArBlade 5000离子研磨系统能够实现高产量,并制备广域横截面样品。 离子研磨系统使用通过在表面上照射氩离子束引起的溅射效应来抛光样品的表面。样品预处理系统可以用于电子和先进材料等各个领域的研发和质量控制等。......
日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sputter )MC1000采用了电磁管电极,能够最大限度地减轻对样品的损坏,并在样品表面涂覆一层均匀粒子。适用于高分辨率的扫描式电子显微镜。日立高新磁控溅射器(Hitachi Ion Sput......
产品简介Leica EM CPD300 是一款全自动临界点干燥仪,也是全球第一款全自动临界点干燥仪。临界点干燥法一直是生物样品干燥的常用方法,用于扫描电镜观察。液体转化成气体产生的巨大表面张力会破坏样品表面精细结构,而使用临界点干燥法则可以......
产品简介Leica EM UC7超薄切片机可以进行半薄和超薄切片,为光学显微镜,透射电子显微镜,扫描电子显微镜和原子力显微镜提供完美的切片。符合人体工学的外观设计,内部精密机械设计,直观的触摸屏控制面板设计,造就了高品质的Leica EM ......
产品简介样品进行扫描电镜观察前,通常需要对其表面镀一层金属膜,以便减少观察时产生的荷电,并增强二次电子或背散射电子信号,获得更好的信噪比。Leica EM ACE200是一款低真空镀膜仪,可以选择离子溅射镀金属膜或者碳丝蒸发镀碳膜功能,或者......
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