半导体专用检测仪器设备 - 品牌 - 厂家

PlasmaPro 100 Cobra，牛津仪器

PlasmaPro 100系列刻蚀和沉积设备可安装多种衬底电极，能够在很宽的温度范围内进行工艺，具有200mm单晶圆和多晶圆批处理能力，该工艺模块可提供具有高度均匀，高产量和高精度的工艺。我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90......

PlasmaPro 100 ALE，牛津仪器

询价申请演示

我们的设备和工艺已通过充分验证，正常运转时间可达90%以上，一旦设备安装完毕，可立即投入使用。PlasmaPro 100系列市场应用广，包括但不限于： MEMS和传感器、光电子、分立元器件和纳米技术。它具有足够的灵活性，可用于研究和开发，通......

NEE-4000 (M)，那诺-马斯特

询价申请演示

NEE-4000（M）电子束蒸发系统概述：NANO-MASTER NEE-4000电子束蒸发系统为双腔体的配置，其中样品台位于主腔体内，二级腔体则用于安置电子束源。这种在两个腔体之间带有门阀的配置可以作为预真空锁，使得电子束源腔体保持真空的......

GDM-2100 ，谱育科技

询价申请演示

产品概述气体泄漏检测的延迟会对工厂财产、环境和人员生命构成巨大威胁。谱育科技研发制造的特气检测仪采用先进的智能传感器技术能侦测到40多种气体，包括硅烷、磷烷、氨气、三氟化氮和其他半导体特气。使用谱育科技高可靠性的特气检测仪监控系统，提高工......

NPC-3000，那诺-马斯特

询价申请演示

NPC-3000等离子去胶机(刻蚀机)概述：NANO-MASTER 等离子去胶和清洗系统是专门设计用来满足晶圆批处理或者单晶片处理的广泛应用，从晶圆的光刻胶剥离到表面改性都涉及到。该系列的设备采用PC控制，可以配套不同的等离子源，......

牛津仪器Ionfab300刻蚀和沉积设备，牛津仪器

询价申请演示

Ionfab 300 IBD客户选择我们的离子束沉积产品是因为它们能够生产具有高质量，致密和表面光滑的沉积薄膜。离子束技术提供了一种多样的刻蚀和沉积的方法，并可在同一设备上实现，因而提高系统的利用率。我们的设备具有灵活的硬件选项，......

PlasmaPro100 Estrelas，牛津仪器

询价申请演示

PlasmaPro 100 Estrelas 平台旨在提供深硅蚀刻（DSiE）领域的全方位的灵活性以满足微电子机械系统（MEMS）、先进封装以及纳米技术市场的各种工艺要求。考虑到研究和生产的市场发展，PlasmaPro 100 E......

牛津仪器Etch刻蚀工艺，牛津仪器

询价申请演示

化合物半导体刻蚀AlGaN/GaN/AlN—刻蚀氮化铝镓深度刻蚀GaP—感应耦合等离子体刻蚀磷化镓刻蚀GaAs/AlGaAs—刻蚀砷化镓/砷化铝镓刻蚀GaSb—刻蚀锑化镓刻蚀GaN—刻蚀氮化镓刻蚀InSb—刻蚀锑化铟刻蚀InP/InGaAs......

NIE-3500 (A)，那诺-马斯特

询价申请演示

NIE-3500（A）全自动IBE离子束刻蚀产品概述：该系统为全自动上下载片，并且通过计算机全自动实现工艺控制的紧凑型独立的立柜式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。该系统所配套的所有......

NIE-3000，那诺-马斯特

询价申请演示

NIE-3000离子束清洗系统产品概述：该系统为手动放片取片，但通过计算机全自动实现工艺控制的台式离子束刻蚀系统，系统具有结构紧凑、功能强大、自动化程度高、模块化设计易于维护、低成本的优势。NIE-3000离子束清洗系统产品特点：·&nbs......