型号:JBX-3050MV
品牌:日本电子
产地:日本
产地: | 亚洲 |
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供应商性质: | 生产商 |
产地类别: | 进口 |
价格范围: | 30万-50万 |
JBX-3050MV 电子束光刻系统
JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。 zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。 是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统。
产品特点:
JBX-3050MV 是用于制作45nm~32nm 节点的掩模版/中间掩模版(mask/reticle)的可变矩形电子束光刻系统。
zei先进的技术实现了高速、高精度和高可靠性。
是基于加速电压50 kV的可变矩形电子束和步进重复式的光刻系统
利用步进重复式曝光的优点,结合曝光剂量调整功能及重叠曝光等功能,能支持下一代掩模版/中间掩模版(mask/reticle)图形制作所需要的多种补偿。
产品规格:
拼接精度 | ≦±3.8 nm |
套刻精度 | ≦±7 nm |