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氮化镓(GaN)晶体基片
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氮化镓(GaN)晶体基片
PIPES指数:7.8用户:应用:

型号型号: G-a-N

品牌品牌:合肥科晶

产地产地:安徽

合肥科晶材料技术有限公司

核心参数
产地: 中国大陆
供应商性质: 生产商
产地类别: 国产
价格范围: 1-1万
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产品描述

产品名称:

氮化镓(GaN)晶体基片

产品简介:

GaN易与AlN、InN等构成混晶,能制成各种异质结构,已经得到了低温下迁移率达到105cm2/Vs的2-DEG(因为2-DEG面密度较高,有效地屏蔽了光学声子散射、电离杂质散射和压电散射等因素).科晶公司将为您提供高品质低价位的氮化镓晶体和基片。

技术参数:

制作方法:HVPE(氢化物气象外延法)传导类型:N型;半绝缘型电阻率:R<0.5 Ω.cm;R>106Ω.cm表面粗糙度:<0.5nm位错密度:<5x106Ω.cm可用表面积:>90%TTV:≤15umBow:≤20um

 

产品规格:

晶体方向: <0001>;常规尺寸:dia50.8mm±1mm x 0.35mm ±25um;

注:可按照客户要求加工尺寸及方向。


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