多阵列杂交工作站HybMix S4具有高效的振荡系统和精确的温度控制系统，多阵列杂交工作站是微阵列玻片和多个子阵列（多阵列玻片）杂交成功的有力杂交工作站。

多阵列杂交工作站特点

可以杂交多达4个载玻片。微阵列玻片受到精确温度控制，与载玻片架直接接触，一起受到精确的温度调节控制。控制温度的范围从室温至105℃，温度精度高达+/- 0.1℃。这款多阵列杂交工作站集成了轨道振荡器，提供从300至900rmp的可调转速控制，有效提高杂交和结合反应成功率。
多阵列杂交工作站采用国际一流的用户友好界面，操作方便;用户可以设置温度，杂交持续时间和振荡速度。
温度，时间和振荡速度显示于仪器前方的宽屏显示屏上，用户可以在任何时间调整参数。
多阵列杂交工作站优势
Peltier温度控制技术精确控制温度
精确温度调节
集成了轨道振荡系统
前部具有显示和控制面板
用户友好的操作界面
多阵列杂交工作站参数
温度范围：室温到105摄氏度
加热/制冷系统：温控Peltier技术，温度分辨率 0.1 °C
振荡系统：轨道振荡器速度300-1500RPM可调
用户界面：高级荧光显示屏VFD， 8个编程控制操作键
尺寸(LxDxH)： 29.5 x 26.5 x 17.0 cm
电力要求： 220 V, 50/60 Hz, 125 W
重量：8.5kg