型号：RTP-1200
品牌：尤尼坦
产地：韩国
迷你型快速退火炉
RTP-1200
产地：韩国；
型号：RTP-1200；
RTP-1200小型真空快速退火炉(RTP/RTA)为韩国进口的快速退火炉。
该仪器：尺寸小巧，使用风冷、无须水冷，电流要求不高(3安培)，性价比高，使用方便，非常适合科研院所的科研使用。
技术规格：
- 加热方式：红外卤素钨灯，600W；
- 卤素红外灯数量：4支；
- 最快升温速率：100℃/秒；
- 最快降温速率：50秒(1000℃ → 400℃)；
- 最高温度：1200℃；
- 温度精度：+/-0.3℃
- 最大样品尺寸：20 x 20mm；
- 退火环境：真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等)；
- 真空泵及极限压力：机械泵，10-3Torr水平(选配)；
- 电压：220 V，单相；
- 仪器尺寸：400*300*450mm (W*D*H)；
- 质量：净重30Kg；
仪器特点：
- 可在真空/不同气氛/空气不同环境下，对样品进行快速热处理；
- 温控精度高；
- 适合高校或研究所科研使用；
- 无须额外的冷却系统；
- 紧凑的台式设计；
- 仪器操作方便，样片装取容易；
- 价格合理，高性价比；
应用领域：
- 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
- 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
- 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
- 硅化 (Silicidation);
- 扩散 (Diffusion);
- 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);
- 离子注入后退火 (Implant Annealing);
- 电极合金化 (Contact Alloying);
- 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);
- 合金熔点分析；
- 薄膜沉积；
等等…
参考用户：北京大学、中科院北京纳米所、齐齐哈尔大学、湖南大学、中科院苏州纳米所、吉林大学、南京大学….
Ecopia快速退火炉（4~6英寸）
产地：韩国Ecopia；
型号：RTP-1300/RTP-1600；
RTP-1300, RTP-1600为Ecopia进口真空快速退火炉，仪器带有控制软件，为台式设计。
RT-1300可以退火100mmX100mm尺寸的样品，RTP-1600可以退火150mmX150mm尺寸的样品。
技术规格：
- 加热方式：红外卤素钨灯，1.2KW/支；
- 卤素红外灯数量：12支，或18支；
- 最快升温速率：100℃/秒；
- 最快降温速率：60秒(1000℃ → 400℃)；
- 最高温度：1200℃；
- 温度精度：+/-1℃
- 最大样品尺寸：100 X 100mm, 或150mm X 150mm；
- 退火环境：真空、惰性气体、空气、其他工艺气氛(如氧气、氢气等)；
- 真空泵及极限压力：机械泵，10-3Torr水平(选配)；
- 电压：220 V，单相或三相；
- 仪器尺寸：500 X 400 X 500mm (W X D X H)；
- 质量：净重60Kg；
仪器特点：
- 可在真空/不同气氛/空气不同环境下，对样品进行快速热处理；
- 温控精度高；
- 适合高校或研究所科研使用；
- 带有RTP控制软件；
- 紧凑的台式设计；
- 仪器操作方便，样片装取容易；
- 价格合理，高性价比；
应用领域：
- 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
- 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
- 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
- 硅化 (Silicidation);
- 扩散 (Diffusion);
- 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);
- 离子注入后退火 (Implant Annealing);
- 电极合金化 (Contact Alloying);
- 晶化和致密化 (Crystallization and Densification);
- 合金熔点分析；
- 薄膜沉积；
等等…
RTP-1300快速退火炉参考用户：
北京师范大学、北京理工大学、昆明理工大学、东南大学、西安交通大学、渤海大学、中科院苏州纳米所、国电光伏、苏州新磊等...
高真空快速退火炉（4~6英寸）
产地：法国AnnealSys；
型号：AS-One100/AS-One150
AS-ONE立式快速退火炉为法国AS公司生产，分为AS-ONE 100, 150, 200三个型号，分别对应4英寸、6英寸、8英寸的真空快速退火炉产品。
应用：
- 快速热退火 RTA；
- 快速热氧化 RTO；
- 扩散，接触退火；
- 化合物半导体退火；
- 氮化，硅化；
- 硒化，硫化；
- 石墨烯沉积，碳纳米管生长；
- 晶体化，致密化；
技术规格：
规格 | AS-ONE 100 | AS-ONE 150 |
最大样品基底直径 | 100mm (4英寸) | 150mm (6英寸) |
腔体尺寸 | 130mm直径 x 25mm | 200mm直径 x 25mm |
红外灯数量/最大功率 | 12支 / 30KW | 18支 / 34KW |
红外灯冷却方式 | 风扇 | 风扇 |
标准温度范围 | 室温 ~ 1250°C | 室温 ~ 1200°C |
选配高温版本范围 | 室温 ~ 1500°C | 室温 ~ 1300°C |
升温速度 | 0.1°C ~ 200°C/s | 0.1°C ~ 150°C/s |
温度控制 | 快速数字PID控制器 | 快速数字PID控制器 |
热电偶 | K型 | K型 |
高温计 | 150°C ~ 1100°C 400°C ~ 1500°C | 150°C ~ 1100°C 400°C ~ 1500°C |
气体注入 | 石英视窗以下 | 石英视窗以下 |
清洗气路 | 标准配置 | 标准配置 |
工艺气路方式/数量 | MFC / 5路 | MFC / 5路 |
真空获得系统 | 干泵(10-2Torr) 分子泵(10-6Torr) | 干泵(10-2Torr) 分子泵(10-6Torr) |
尺寸/重量 | 510mm x 1425mm x 800mm / 194Kg | 510mm x 1425mm x 800mm / 240Kg |
参考客户：
清华大学、复旦大学、华南理工大学、天津中电十八所、南京中电五十五所、GE上海研发中心等。
